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为什么那么多客户选择真萍科技HMDS涂胶机?

 发布时间:2018-10-25 点击:载入中...

为什么那么多客户选择真萍科技HMDS涂胶机?

        在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也尤为重要。

      光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀,增黏剂HMDS可以改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。在显影的过程中,由于它增强了光刻胶与基底的粘附力,从而抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。 
真萍科技HMDS涂胶机
      起初,人们用液态的HMDS直接涂到晶片上,然后借着晶片的高速旋转在晶片表面形成一层HMDS膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题,但随着光刻线条的越来越细,胶的越来越薄,对粘附力提出了更高的要求,于是广东11选5计划_广东11选奖励_广东11元选5秘诀研制出了现在的HMDS专用烘箱。下面为您介绍真萍科技HMDS涂胶机的预处理系统的优点,这能体现出真萍科技HMDS涂胶机受客户欢迎的原因。

     真萍科技HMDS涂胶机预处理系统的优点:

     1.预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会降低,所以有着更好的处理效果等。

     2.处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟的均匀性。
     3.效率高。液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。
     4.更加节省药液。实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;   

     5.更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。


*文章仅为个人观点,不作为技术参考。

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